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PLUTO-ME定制型等離子清洗機特點:
我們的團隊擁有豐富的學(xué)術(shù)和工作背景,使用和設(shè)計經(jīng)驗極為成熟。產(chǎn)品涉及各個等離子體應(yīng)用領(lǐng)域;
極為穩(wěn)定的設(shè)備性能和擁有對功能變化帶來性能增減的把控能力;
成熟穩(wěn)定的供應(yīng)商體系和部件加工能力;
完善的性能測試體系,保證每一個部件都能滿足設(shè)計要求;
“因為是自己研發(fā)的,所以我們知道怎么改!”
我們的總工這樣評價我們的研發(fā)能力。我們非常樂意傾聽用戶需求,與用戶一起合作,制造出能夠幫助客戶解決問題的設(shè)備。
PLUTO-ME定制型等離子清洗機參數(shù):
可定制不同規(guī)格的腔體,包括圓形(水平);圓形(垂直),方形;
可定制不同形狀處理電極(陰極和陽極),包括垂直和水平的樣品擺放方式;
可定制不同材質(zhì)的腔體,316不銹鋼或者6061鋁合金腔體;
(我們堅持使用316不銹鋼和6061鋁合金材質(zhì),在保證腔體整體加工質(zhì)量同時,也保證氣體和射頻發(fā)生器在真空狀態(tài)工作時產(chǎn)生的等離子體的濃度和腔體提供保障);
樣品溫度控制;
其他功能;
等離子清洗機應(yīng)用:
污染物清洗
清洗玻璃、金屬、陶瓷、塑料等材料表面的有機物及其他污染物
表面活化
利用等離子體轟擊樣品表面,改變樣品表面張力和活性
鍍膜
采用等離子斷鍵功能的裝置,將鍍膜材料以納米級厚度均勻覆蓋樣品表面
等離子體刻蝕
對半導(dǎo)體材料、集成電路板、PCB板、塑料制品等材料進行刻蝕
等離子體反應(yīng)
特別的工藝手段和裝置,可以實現(xiàn)等離子體與樣品的化學(xué)反應(yīng),并得到相應(yīng)物質(zhì)
粉體處理
粉體裝置,可實現(xiàn)納米級顆粒的等離子體均勻處理,實現(xiàn)各項性能
半導(dǎo)體元件清洗:光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。
光學(xué)鏡片清洗:清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
去除氧化物:移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。
芯片清洗:清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。
表面修飾:高分子材料表面的修飾。
封裝領(lǐng)域:封裝領(lǐng)域中的清洗和改性,增強其粘附性,適用于直接封裝及粘和。
改善粘合力:改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
涂覆鍍膜:對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增強表面粘附性、浸潤性、相容性,顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。
牙科領(lǐng)域:對鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理,增強其浸潤性和相容性。
醫(yī)用領(lǐng)域:修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理,增強其浸潤性、粘附性和相容性及對醫(yī)療器械的消毒和殺菌。