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等離子清洗機(jī)因其高效的表面處理能力而廣受歡迎，在眾多行業(yè)領(lǐng)域內(nèi)發(fā)揮著關(guān)鍵作用。這種設(shè)備利用等離子體技術(shù)，能夠去除材料表面的有機(jī)污染物，改善粘接、涂裝和印刷工藝的...
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在現(xiàn)代材料科學(xué)和表面處理領(lǐng)域，實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)是一種不可少的精密設(shè)備。它通過(guò)利用高能等離子體對(duì)樣品表面進(jìn)行清洗和改性，從而去除污染物、改善粘附性或增強(qiáng)表面性能。本文將介紹實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)的工作原理、應(yīng)用領(lǐng)域以及操作時(shí)的關(guān)鍵注意事項(xiàng)。工作原理實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)通常采用低壓氣體放電產(chǎn)生等離子體。在真空條件下，通過(guò)射頻(RF)或微波能量激發(fā)氣體(如氬氣、氧氣或其他惰性氣體)，使其電離形成帶電粒子的等離子態(tài)。這些高能粒子撞擊待處理樣品表面，物理上轟擊去除表面的有機(jī)污染物，同時(shí)化學(xué)...
[查看詳情]應(yīng)用案例
等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性；
圖為PLUTO-M對(duì)線(xiàn)路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見(jiàn)的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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